[发明专利]一种用于化学机械抛光的硅溶胶活性磨粒及制备方法有效
| 申请号： | 202210153149.8 | 申请日： | 2022-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN114525108B | 公开（公告）日： | 2023-06-09 |
| 发明（设计）人： | 雷红;陈怡;张佰春;董越;雷逸凡;杨小强;周代圆;陈巍巍 | 申请（专利权）人： | 太仓硅源纳米材料有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京盛凡佳华专利代理事务所(普通合伙) 11947 | 代理人： | 张丽娜 |
| 地址： | 215433 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于化学机械抛光的硅溶胶活性磨粒，所述硅溶胶磨粒具有非球状外形，且所述硅溶胶磨粒包含具有化学活性的二氧化锰化合物。本发明提供的一种用于化学机械抛光的硅溶胶活性磨粒及制备方法，该硅溶胶磨粒具有非球状外形，且外表面包含具有化学活性的二氧化锰化合物；可以显著提高蓝宝石的抛光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 机械抛光 硅溶胶 活性 制备 方法 | ||
【主权项】：
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