[发明专利]一种磷化铟材料的抛光工艺优化方法、系统及介质在审
| 申请号： | 202210094552.8 | 申请日： | 2022-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN114627985A | 公开（公告）日： | 2022-06-14 |
| 发明（设计）人： | 潘功寰 | 申请（专利权）人： | 苏州中砥半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | G16C60/00 | 分类号： | G16C60/00;B24B1/00 |
| 代理公司： | 佛山粤进知识产权代理事务所(普通合伙) 44463 | 代理人： | 耿鹏 |
| 地址： | 215011 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种磷化铟材料的抛光工艺优化方法及系统，属于磷化铟加工技术领域，本发明通过采集磷化铟材料在抛光工艺过程中的实时加工情况；进而建立抛光评估模型，获取磷化铟材料的加工图纸参数，并将所述磷化铟材料的加工图纸参数导入所述抛光评估模型中训练，得到训练好的抛光评估模型；将所述磷化铟材料在抛光工艺过程中的实时加工情况导入到所述训练好的抛光评估模型中，得到评估概率值；基于所述评估概率值调整抛光压头的加工参数。进而实现通过控制抛光过程中产生的有效动能值从而改变加载力，能够有效地避免了在抛光过程中磷化铟材料的抛光损伤现象。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磷化 材料 抛光 工艺 优化 方法 系统 介质 | ||
【主权项】：
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