[发明专利]高刻蚀精度陶瓷覆金属板、制备方法及芯片封装模块在审

专利信息
申请号: 202210051527.1 申请日: 2022-01-17
公开(公告)号: CN114380614A 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 杨晓战 申请(专利权)人: 杨晓战
主分类号: C04B37/02 分类号: C04B37/02;H01L21/48;H01L23/498
代理公司: 重庆千石专利代理事务所(普通合伙) 50259 代理人: 冷奇峰
地址: 100089 北京市海淀区北四*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种高刻蚀精度陶瓷覆金属板、制备方法和芯片封装模块。该高刻蚀精度陶瓷覆金属板包括陶瓷层(a1)、金属层(b1)和活性金属粘接层(t1),其中活性金属粘接层(t1)位于金属层(b1)被刻蚀后剩余的金属线路层(b2)下表面。通过仅在未被刻蚀的金属线路层(b2)下表面印刷活性金属粘接层,保证被刻蚀位置不存在活性金属,从而解决活性金属不能被刻蚀的问题。另外通过在陶瓷层上设置凹槽,将活性金属粘接层置于凹槽内,且活性金属粘接层(t1)厚度/凹槽(a2)深度比值在1.02~1.15之间,既能提升焊接强度,又能解决焊接后的金属层不平整问题。
搜索关键词: 刻蚀 精度 陶瓷 金属板 制备 方法 芯片 封装 模块
【主权项】:
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