[发明专利]一种密封结构及具有该密封结构的衬底处理设备在审
| 申请号： | 202210037773.1 | 申请日： | 2022-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN116480777A | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | 刘自强;燕春;杨进 | 申请（专利权）人： | 江苏天芯微半导体设备有限公司 |
| 主分类号： | F16J15/10 | 分类号： | F16J15/10;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 林杨;徐雯琼 |
| 地址： | 214021 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种密封结构，用于衬底处理设备的法兰、上顶和腔体之间的密封，包括：法兰‑上顶密封隔离组件，用于法兰与上顶之间的密封，以及上顶的垂直方向的防接触破裂保护；上顶‑腔体密封隔离组件，用于上顶与腔体之间的密封，以及上顶的垂直方向的防接触破裂保护；法兰‑腔体密封组件，用于法兰与腔体之间的密封；上顶水平方向隔离组件，用于上顶的水平方向的防接触破裂保护。本发明还涉及一种应用该密封结构的衬底处理设备。本发明可在实现高温状态下的衬底处理设备真空密封及上顶对中的基础上，在安装及工艺处理过程中完全隔绝石英与金属的直接接触，解决石英上顶存在碎裂风险的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 密封 结构 具有 衬底 处理 设备 | ||
【主权项】：
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