[发明专利]一种密封结构及具有该密封结构的衬底处理设备

权利要求书

1.一种密封结构，用于衬底处理设备的法兰、上顶和腔体之间的密封，其特征在于，包括：

法兰-上顶密封隔离组件，设置于所述法兰与所述上顶之间，用于所述法兰与所述上顶之间的密封，以及所述上顶的垂直方向的防接触破裂保护；

上顶-腔体密封隔离组件，设置于所述上顶与所述腔体之间，用于所述上顶与所述腔体之间的密封，以及所述上顶的垂直方向的防接触破裂保护；

法兰-腔体密封组件，设置于所述法兰与所述腔体之间，用于所述法兰与所述腔体之间的密封；

上顶水平方向隔离组件，设置于所述上顶侧壁一周，用于所述上顶的水平方向的防接触破裂保护。

2.如权利要求1所述的密封结构，其特征在于，所述上顶水平方向隔离组件包括：

隔离导向环，采用非金属材质，为内部中空的环状体，所述内部中空部分可容纳所述上顶；安装后，所述隔离导向环的环体内侧抵接所述上顶的侧壁，或设置0mm至5mm的间隙，所述隔离导向环的环体外侧抵接所述法兰或所述腔体内壁，或设置0mm至5mm的间隙，使所述上顶与所述法兰、所述腔体在水平方向上不直接接触；

隔离导向环固定装置，用于将所述隔离导向环固定于所述衬底处理设备内部。

3.如权利要求2所述的密封结构，其特征在于，所述隔离导向环固定装置为耐高温黏胶，所述耐高温黏胶其中一面覆盖设置在所述隔离导向环内环面或外环面，另一面覆盖设置在所述衬底处理设备内部的所述隔离导向环的安装位置。

4.如权利要求2所述的密封结构，其特征在于，所述法兰-上顶密封隔离组件包括：

法兰-上顶密封圈，为闭合的环体，采用弹性材料，环形设置于所述法兰底面与所述上顶顶面之间，所述法兰-上顶密封圈的上表面抵接所述法兰的底面，所述法兰-上顶密封圈的下表面抵接所述上顶的顶面，使所述法兰与所述上顶在垂直方向上不直接接触，并通过所述法兰与所述上顶挤压法兰-上顶密封圈实现气密密封；

法兰-上顶密封圈槽，为与所述法兰-上顶密封圈适配的环状槽体，内凹设置于所述法兰的底面，并部分收容所述法兰-上顶密封圈于槽内，用于固定所述法兰-上顶密封圈。

5.如权利要求4所述的密封结构，其特征在于，所述法兰-上顶密封隔离组件为多对内径不同、间隔设置的法兰-上顶密封圈和法兰-上顶密封圈槽。

6.如权利要求2所述的密封结构，其特征在于，所述上顶-腔体密封隔离组件包括：

上顶-腔体密封圈，为闭合的环体，采用弹性材料，环形设置于所述上顶底面与所述腔体腔口顶面之间，所述上顶-腔体密封圈的上表面抵接所述上顶的底面，所述上顶-腔体密封圈的下表面抵接所述腔体的腔口顶面，使所述上顶与所述腔体在垂直方向上不直接接触，并通过所述上顶与所述腔体挤压上顶-腔体密封圈实现气密密封；

上顶-腔体密封圈槽，呈与所述上顶-腔体密封圈适配的环状槽体，内凹设置于所述腔体的腔口顶面，并部分收容所述上顶-腔体密封圈于槽内，用于固定所述上顶-腔体密封圈。

7.如权利要求6所述的密封结构，其特征在于，所述上顶-腔体密封隔离组件为多对内径不同、间隔设置的上顶-腔体密封圈和上顶-腔体密封圈槽。

8.如权利要求2所述的密封结构，其特征在于，所述法兰-腔体密封组件包括：

法兰-腔体密封圈，为闭合的环体，采用弹性材料，环形设置于所述法兰底面与所述腔体腔口顶面之间，所述法兰-腔体密封圈的上表面抵接所述法兰底面，所述法兰-腔体密封圈的下表面抵接所述腔体的腔口顶面，通过所述法兰与所述腔体挤压法兰-腔体密封圈实现气密密封；

法兰-腔体密封圈槽组，为上下对称的并与所述法兰-腔体密封圈适配的两个环状槽体，包括一个法兰密封圈槽和一个腔体密封圈槽，所述法兰密封圈槽内凹设置于所述法兰底面，所述腔体密封圈槽内凹设置于所述腔体的腔口顶面；安装后，所述法兰密封圈槽和所述腔体密封圈槽垂直投影完全重合，且部分收容所述法兰-腔体密封圈于槽组内，用于固定所述法兰-腔体密封圈；

定位锁紧机构，用于将所述法兰与所述腔体锁紧。