[发明专利]一种提高PS-PVD沉积过程中气相比例的装置及方法有效
| 申请号： | 202210011953.2 | 申请日： | 2022-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN114059020B | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 郭洪波;高丽华;魏亮亮;何雯婷;彭徽 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 北京天汇航智知识产权代理事务所(普通合伙) 11987 | 代理人： | 黄川;史继颖 |
| 地址： | 100191*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种提高PS‑PVD沉积过程中气相比例的装置和方法，装置为同心环式遮挡装置，包括第一同心环和第二同心环，第一同心环包括第一外环和第一内环，第二同心环包括第二外环和第二内环；第一外环、第一内环、第二外环和第二内环，在垂直PS‑PVD射流方向表面上的投影相互连接，相互没有空隙，第一外环、第一内环和第二外环、第二内环在沿着方向PS‑PVD射流方向上错位交互排列，即第一外环与第二外环、第二外环与第一内环、第一内环与第二内环之间均留有间隙；第二内环的内部为中空，没有遮挡；各同心环从射流中心到边缘方向的排列逐渐稀疏，本发明能有效过滤掉射流边缘中的液相或未熔颗粒，保证沉积过程中为气相沉积，沉积工件表面涂层结构一致，厚度均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 ps pvd 沉积 过程 中气 相比 装置 方法 | ||
【主权项】：
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