[发明专利]基于X射线检验集成电路的方法和系统在审
| 申请号： | 202180065195.6 | 申请日： | 2021-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN116249895A | 公开（公告）日： | 2023-06-09 |
| 发明（设计）人： | 布伦南·洛夫莱斯·彼得森;哈克·丘阿·斯姆;安德鲁·乔治·里德;纳比尔·法拉·达瓦雷·奥利维里 | 申请（专利权）人： | 布鲁克纳米公司 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 宋融冰 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在一个实施例中，一种自动化高速X射线系统可以在与被检验样本的平面基本正交的方向上生成所述被检验样本的高分辨率的X射线图像。所述系统可以基于与所关注的第一要素相关联的X射线图像的灰度值来确定所述被检验样本中所述所关注的第一要素的第一部分的第一横截面形状。所述系统可以确定所述被检验样本中所述所关注的第一要素的第二部分的第二横截面形状。所述第二横截面形状可以基于与所述所关注的第一要素相关联的X射线图像的灰度值来确定。所述系统可以基于所述第一横截面形状与所述第二横截面形状的比较来确定与所述被检验样本中的所述所关注的第一要素相关联的一个或多个第一计量参数。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 射线 检验 集成电路 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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