[发明专利]抗蚀等离子体处理室部件在审
| 申请号： | 202180051462.4 | 申请日： | 2021-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN115943477A | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 哈米特.辛格;罗宾·科什伊;艾德里安·拉多西亚;许临;贾斯廷·查尔斯·卡尼夫;西蒙·戈瑟兰 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠;张华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种用于等离子体处理室的部件。部件包含部件主体。部件的面向等离子体表面适用于在等离子体处理室中面对等离子体。面向半导体处理的表面包含：1)掺有掺杂剂的硅的层，其中所述掺杂剂为下列至少一者：碳、硼、钨、钼和钽，其中所述掺杂剂的摩尔百分比浓度介于0.01％至50％的范围内；或2)掺有掺杂剂的碳的膜层，其中所述掺杂剂为下列至少一者：硅、硼、钨、钼和钽，其中所述掺杂剂的摩尔百分比浓度介于0.01％至50％的范围内；或3)主要由硼所构成的层；或4)主要由钽所构成的层。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 部件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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