[发明专利]光刻设备、量测系统及其方法在审
| 申请号： | 202180042775.3 | 申请日： | 2021-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN115698866A | 公开（公告）日： | 2023-02-03 |
| 发明（设计）人： | S·R·惠斯曼;S·马利克;林宇翔;D·M·斯洛特布姆 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨飞 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种系统，包括照射系统、光学元件、开关元件和检测器。照射系统包括生成辐射束的宽带光源。色散光学元件接收辐射束并且生成带宽比宽带光源窄的多个光束。光学开关接收多个光束并且将多个光束中的每个光束传输到传感器阵列的多个对准传感器中的相应一个对准传感器。检测器接收从传感器阵列返回的辐射并且基于所接收的辐射生成测量信号。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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