[发明专利]抑制了交联剂的改性的抗蚀剂下层膜形成用组合物在审
| 申请号： | 202180026798.5 | 申请日： | 2021-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN115398343A | 公开（公告）日： | 2022-11-25 |
| 发明（设计）人： | 窪寺俊;上林哲;远藤勇树 | 申请（专利权）人： | 日产化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 李渊茹;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
提供保存稳定性高、膜的固化开始温度低、升华物的产生量少、可以形成不溶出于光致抗蚀剂溶剂的膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物、使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案形成法、和半导体装置的制造方法。包含能够交联的树脂、交联剂、下述式(I)所示的交联催化剂、和溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物。(A‑SO |
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| 搜索关键词： | 抑制 交联剂 改性 抗蚀剂 下层 形成 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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