[发明专利]石墨薄膜的制造方法在审

专利信息
申请号: 202180024708.9 申请日: 2021-03-04
公开(公告)号: CN115427351A 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 村岛健介;村上睦明 申请(专利权)人: 株式会社钟化
主分类号: C01B32/205 分类号: C01B32/205
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题在于,提供能够简便地制造表面粗糙度更小的石墨薄膜的方法。本发明涉及一种石墨薄膜的制造方法,其包括下述工序:将碳化温度为Ta的碳化框与芳香族聚酰亚胺膜或前述芳香族聚酰亚胺膜在碳化温度Tb下进行处理而得到的碳化膜一体化,在温度Td下进行碳化,接着进行石墨化,TaTb并且TbTd,所述石墨薄膜的表面粗糙度(算术平均高度Sa)不足18nm,厚度为5nm以上且不足10μm,面积为1.0cm2以上且不足500cm2
搜索关键词: 石墨 薄膜 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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