[发明专利]石墨薄膜的制造方法在审
| 申请号: | 202180024708.9 | 申请日: | 2021-03-04 |
| 公开(公告)号: | CN115427351A | 公开(公告)日: | 2022-12-02 |
| 发明(设计)人: | 村岛健介;村上睦明 | 申请(专利权)人: | 株式会社钟化 |
| 主分类号: | C01B32/205 | 分类号: | C01B32/205 |
| 代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: |
本发明的课题在于,提供能够简便地制造表面粗糙度更小的石墨薄膜的方法。本发明涉及一种石墨薄膜的制造方法,其包括下述工序:将碳化温度为Ta的碳化框与芳香族聚酰亚胺膜或前述芳香族聚酰亚胺膜在碳化温度Tb下进行处理而得到的碳化膜一体化,在温度Td下进行碳化,接着进行石墨化,TaTb并且TbTd,所述石墨薄膜的表面粗糙度(算术平均高度Sa)不足18nm,厚度为5nm以上且不足10μm,面积为1.0cm |
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| 搜索关键词: | 石墨 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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