[实用新型]一种半导体硅片研磨装置有效

专利信息
申请号: 202123147912.6 申请日: 2021-12-15
公开(公告)号: CN217194365U 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 李炜;王看看 申请(专利权)人: 徐州威聚电子材料有限公司
主分类号: B24B7/22 分类号: B24B7/22;B24B55/02;B24B55/06;B24B41/06;B01D50/60
代理公司: 北京盛凡佳华专利代理事务所(普通合伙) 11947 代理人: 陈文丽
地址: 221700 江苏省徐州市丰县经济*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种半导体硅片研磨装置,包括括支撑板、工作台、凹槽、过滤槽、固定板、伸缩杆、清洗组件、打磨石和固定组件,所述支撑板设于工作台上,所述凹槽设于工作台上壁上,所述过滤槽设于凹槽底壁上,所述固定板一端设于支撑板上,所述伸缩杆一端设于固定板另一端上,所述清洗组件一端设于工作台内,所述清洗组件另一端贯穿支撑板设于伸缩杆另一端上,所述打磨石设于清洗组件另一端上,所述固定组件一端设于过滤槽内底壁上,所述固定组件另一端设于凹槽内,本实用新型属于半导体制造技术领域,具体是指一种半导体硅片研磨装置,清洗效果好放止打磨颗粒造成刮伤,便于固定硅片放止打磨时偏移。
搜索关键词: 一种 半导体 硅片 研磨 装置
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