[实用新型]一种半导体废气处理设备新型内探式集气腔体有效
| 申请号： | 202123069631.3 | 申请日： | 2021-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN217272697U | 公开（公告）日： | 2022-08-23 |
| 发明（设计）人： | 崔汉博;崔汉宽 | 申请（专利权）人： | 上海高生集成电路设备有限公司 |
| 主分类号： | F16L41/03 | 分类号： | F16L41/03;F16L41/08;F23G7/06 |
| 代理公司： | 上海老虎专利代理事务所(普通合伙) 31434 | 代理人： | 葛瑛 |
| 地址： | 200000 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种半导体废气处理设备新型内探式集气腔体，包括装置本体，所述装置本体包括工作台、底座和进气管路，所述底座位于装置本体顶部，所述底座内部中空式结构，所述进气管路设有三组，三组所述进气管路安装在工作台顶部，所述进气管路包括出气口、连接管和顶部管道，所述顶部管道底部固定在工作台顶部，所述连接管顶部固定在顶部管道底部，且连接管位于底座内部，所述出气口顶部焊接在连接管底部。该种装置的进气管路采用了内探式的设计，从而可以有效地把废气进行集中，进一步提高了对半导体废气的燃烧处理工作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 废气 处理 设备 新型 内探式集气腔体 | ||
【主权项】：
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