[实用新型]一种卧式LPCVD设备上下料系统有效
申请号: | 202123064625.9 | 申请日: | 2021-12-08 |
公开(公告)号: | CN216738526U | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
发明(设计)人: | 林佳继;龙占勇;罗迎春;李洪 | 申请(专利权)人: | 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 | 代理人: | 董世博 |
地址: | 518118 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开一种卧式LPCVD设备上下料系统,包括水平移动单元、垂直升降单元以及悬臂桨单元,悬臂桨单元承载装载有晶圆的石英舟,水平移动单元和垂直升降单元控制悬臂桨单元将装载有晶圆的石英舟输送至反应腔室的上料工序以及将装载已工艺晶圆的石英舟从反应腔室输出的下料工序,本实用新型通过一组水平移动单元1和一组垂直升降单元2的运动组合,实现了向高低位置不同的反应腔室送入和取出晶圆,节约了设备内部空间,同时也为工艺后的晶圆降低温度增加了空间,提高了晶圆的降温速度,减少了晶圆的降温时间,方便人员操作维护。 | ||
搜索关键词: | 一种 卧式 lpcvd 设备 上下 系统 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的