[实用新型]一种卧式LPCVD设备上下料系统有效
| 申请号: | 202123064625.9 | 申请日: | 2021-12-08 |
| 公开(公告)号: | CN216738526U | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
| 发明(设计)人: | 林佳继;龙占勇;罗迎春;李洪 | 申请(专利权)人: | 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
| 代理公司: | 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 | 代理人: | 董世博 |
| 地址: | 518118 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 卧式 lpcvd 设备 上下 系统 | ||
1.一种卧式LPCVD设备上下料系统,其特征在于:包括水平移动单元、垂直升降单元以及悬臂桨单元,悬臂桨单元承载装载有晶圆的石英舟,水平移动单元和垂直升降单元控制悬臂桨单元将装载有晶圆的石英舟输送至反应腔室的上料工序以及将装载已工艺晶圆的石英舟从反应腔室输出的下料工序。
2.根据权利要求1所述的一种卧式LPCVD设备上下料系统,其特征在于:所述水平移动单元包括水平驱动组件和水平移动组件,水平移动组件包括水平导轨安装底板和水平移动导轨,水平移动导轨安装在水平导轨安装底板。
3.根据权利要求2所述的一种卧式LPCVD设备上下料系统,其特征在于:所述水平导轨安装底板上固设有水平固定板,水平驱动组件通过水平固定板安装在水平导轨安装底板上,水平驱动组件包括水平驱动电机、水平减速机、水平联轴器和水平滚珠丝杆,水平驱动电机的输出轴通过水平联轴器与水平滚珠丝杆连接,水平滚珠丝杆的另一端与水平固定板转动连接,水平驱动电机驱动水平滚珠丝杆转动,水平驱动电机与控制系统连接,控制系统控制水平驱动电机的开启、停止以及输出的转速。
4.根据权利要求3所述的一种卧式LPCVD设备上下料系统,其特征在于:所述水平移动单元还包括水平限位机构,水平限位机构包括第一检测开关和第二检测开关,第一检测开关和位于第二检测开关位于水平滚珠丝杆的两端,第一检测开关和第二检测开关控制悬臂桨单元的水平位置和行程。
5.根据权利要求3所述的一种卧式LPCVD设备上下料系统,其特征在于:所述垂直升降单元包括垂直驱动组件和垂直移动组件,垂直移动组件包括垂直导轨安装底板和垂直移动导轨,垂直导轨安装底板与水平移动单元相对的侧面上固设有垂直丝杠螺母,垂直丝杠螺母与水平滚珠丝杆连接,垂直导轨安装底板与水平移动导轨滑动连接,水平驱动电机通过水平滚珠丝杆驱动垂直丝杠螺母运动,带动垂直升降单元沿水平移动导轨水平移动,垂直移动导轨安装在垂直导轨安装底板。
6.根据权利要求5所述的一种卧式LPCVD设备上下料系统,其特征在于:所述垂直导轨安装底板上固设有垂直固定板,垂直驱动组件通过垂直固定板安装在垂直导轨安装底板上,垂直驱动组件包括垂直驱动电机、垂直减速机、垂直联轴器和垂直滚珠丝杆,垂直驱动电机的输出轴通过垂直联轴器与垂直滚珠丝杆连接,垂直滚珠丝杆的另一端与垂直固定板转动连接,垂直驱动电机驱动垂直滚珠丝杆转动,垂直驱动电机与控制系统连接,控制系统控制垂直驱动电机的开启、停止以及输出的转速。
7.根据权利要求1所述的一种卧式LPCVD设备上下料系统,其特征在于:所述垂直升降单元还包括垂直限位机构,垂直限位机构包括第三检测开关、第四检测开关和第五检测开关,第三检测开关、第四检测开关和第五检测开关分别与多组高低方向布置的反应腔室位置相对,使装载有晶圆的石英舟与对应的反应腔室位置相对,第三检测开关和第四检测开关控制悬臂桨单元的竖直位置和行程。
8.根据权利要求6所述的一种卧式LPCVD设备上下料系统,其特征在于:所述悬臂桨单元包括悬臂固定组件和悬臂桨,悬臂固定组件包括悬臂安装底板,悬臂安装底板与垂直升降单元相对的侧面上固设有悬臂丝杠螺母,悬臂丝杠螺母与垂直滚珠丝杆连接,悬臂安装底板与垂直移动导轨滑动连接,垂直驱动电机通过垂直滚珠丝杆驱动悬臂丝杠螺母运动,带动悬臂桨单元沿垂直移动导轨竖直移动,悬臂安装底板上固设有两组悬臂固定板,两组悬臂固定板沿水平方向分布,两组悬臂固定板间固设有导向杆,导向杆上固设有悬臂桨支架,悬臂桨支架用于安装悬臂桨,悬臂桨包括桨固定端和桨承载端,桨固定端用于悬臂桨和悬臂固定组件的固定连接,桨承载端用于承载装载有晶圆的石英舟,桨固定端和桨承载端间通过连接端平滑。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





