[实用新型]保护装置有效
| 申请号： | 202122812592.5 | 申请日： | 2021-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN216213255U | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 辛笛 | 申请（专利权）人： | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 田婷 |
| 地址： | 430205 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及保护装置，提供了一种设置于等离子体切割设备内的保护装置，等离子体切割设备用于切割晶圆，晶圆通过粘合层粘合于载体上形成晶圆组件，晶圆组件放置于切割设备内，所述保护装置包括：屏蔽部与支撑部，屏蔽部呈环形结构，所述屏蔽部在内环边缘处与所述晶圆的边缘相接触，并覆盖所述晶圆的边缘以及所述载体的边缘，所述屏蔽部在外环边缘处与所述支撑部相连接，当晶圆组件放置于所述等离子体切割设备内进行等离子体轰击时，屏蔽部能够保护所述载体免受等离子体轰击的伤害，从而降低生产成本并提高生产效率；同时，由于屏蔽部覆盖晶圆的边缘，还能够避免在切割过程中晶圆边缘的翘起，并使得晶圆的刻蚀切割更加精确，提高了切割精度。 | ||
| 搜索关键词： | 保护装置 | ||
【主权项】：
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