[实用新型]半导体器件有效

专利信息
申请号: 202122511036.4 申请日: 2021-10-18
公开(公告)号: CN216213470U 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 姜春亮;李伟聪;雷秀芳 申请(专利权)人: 深圳市威兆半导体有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/423;H01L29/417;H01L29/78
代理公司: 深圳市嘉勤知识产权代理有限公司 44651 代理人: 刘自丽
地址: 518000 广东省深圳市南山区桃源街道福*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请公开了一种半导体器件,属于功率半导体技术领域,其器件主体部的底端依次覆盖有第一导电类型衬底与导体漏极,器件主体部的顶端覆盖有导体源极;器件主体部由上往下依次划分为第一导电类型重掺杂区、第二导电类型轻掺杂区以及第一导电类型漂移区,器件主体部的顶端凹设有一深沟槽,以分别绝缘放置控制栅电极与屏蔽栅电极;第一导电类型重掺杂区的顶层外侧设置有缺口,该缺口填充为第二导电类型重掺杂区。本申请可以在SGT‑MOSFET结构的基础上,有效降低现有功率半导体器件的穿通击穿电压的温度系数,且结构简单、器件工作时的整体功耗较低。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
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