[实用新型]一种屏蔽栅MOSFET有效

专利信息
申请号: 202122114620.6 申请日: 2021-09-02
公开(公告)号: CN216288470U 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 李伟聪;姜春亮;雷秀芳 申请(专利权)人: 深圳市威兆半导体有限公司
主分类号: H01L29/423 分类号: H01L29/423;H01L29/78
代理公司: 深圳市嘉勤知识产权代理有限公司 44651 代理人: 帅进军
地址: 518000 广东省深圳市南山区桃源街道福*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请公开了一种屏蔽栅MOSFET,屏蔽栅MOSFET包括第一导电类型的漂移区、位于漂移区的顶部的沟槽以及位于沟槽的两侧的第二导电类型的体区;沟槽内设有栅极和屏蔽栅,栅极位于屏蔽栅的上方,体区的顶部靠近栅极的一侧设有第一导电类型的第一掺杂区;第一掺杂区的顶面设有源极,体区连接源极;屏蔽栅连接源极;栅极与第一掺杂区之间设有第一氧化层,栅极与体区之间设有栅氧化层,屏蔽栅与沟槽的内壁之间设有第二氧化层,栅极、第一氧化层和源极的顶面平齐,其中,第一氧化层的厚度大于栅氧化层的厚度。该屏蔽栅MOSFET在降低了栅漏电容的同时,降低了栅源电容,提高了屏蔽栅MOSFET响应速度。
搜索关键词: 一种 屏蔽 mosfet
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市威兆半导体有限公司,未经深圳市威兆半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202122114620.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top