[实用新型]一种光伏硅片表面蚀刻设备有效

专利信息
申请号: 202121971718.7 申请日: 2021-08-21
公开(公告)号: CN215680709U 公开(公告)日: 2022-01-28
发明(设计)人: 付嘉伟 申请(专利权)人: 上海亘今精密机电科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L21/67;H01L21/683
代理公司: 合肥市科融知识产权代理事务所(普通合伙) 34126 代理人: 刘冉
地址: 200120 上海市浦东新区中国(上海)*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种光伏硅片表面蚀刻设备,涉及光伏设备技术领域,包括蚀刻箱和支架,支架焊接在蚀刻箱的上方,蚀刻箱的内部开设有蚀刻间和对流间,蚀刻间位于对流间的正上方,蚀刻间内部的顶面均匀开设有若干个通孔,支架的左右两端均嵌接有电动推杆,左右两端的电动推杆之间的底部焊接有升降板,升降板的底部均匀插接有若干根空心杆,若干根空心杆的底部均熔接有吸附塞,吸附塞的底部开设有阶梯槽,支架的上表面安装有用于抽气的高压风机。通过将硅片吸在吸附塞的阶梯槽内,并使得硅片的下表面浸泡在蚀刻液中,以此可以对硅片的下表面进行蚀刻,而硅片的上表面位于阶梯槽内,所以硅片的上表面不易被蚀刻液侵蚀。
搜索关键词: 一种 硅片 表面 蚀刻 设备
【主权项】:
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