[实用新型]一种超硬耐磨减反射膜结构有效

专利信息
申请号: 202121788999.2 申请日: 2021-08-02
公开(公告)号: CN215813417U 公开(公告)日: 2022-02-11
发明(设计)人: 胡凯;涂洁磊;吴佳豪;余首柘;李雷 申请(专利权)人: 云南师范大学
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;G02B1/14;B32B17/00;B32B9/00;B32B9/04;B32B33/00
代理公司: 安徽思沃达知识产权代理有限公司 34220 代理人: 唐明
地址: 650000 云南*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 实用新型涉及钢化膜技术领域,且公开了一种超硬耐磨减反射膜结构,包括基体,基体的顶部设置有耐磨层,耐磨层包括氮化硅层,本实用新型通过基体、耐磨层、氮化硅层、第一氮化硅层、第二氮化硅层、氧化物层、第一氧化物层和第二氧化物层的设置,共同构建了一个超硬耐磨减反射膜结构,其中通过第一氮化硅层和第二氮化硅层配合,氮化硅是一种重要的结构陶瓷材料,它是一种超硬物质,本身具有润滑性,并且耐磨损,抗氧化,再通过第一氧化物层和第二氧化物层的配合,通过两者之间的折射率差比,可以使基体表面反射回多层的光线,并二次反射回基体中,提高了膜层的减反射效果,变向增加了基体中光的吸收,进一步增加亮度。
搜索关键词: 一种 耐磨 减反射膜 结构
【主权项】:
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