[实用新型]机壳内磁瓦整形装置有效
| 申请号： | 202121722657.0 | 申请日： | 2021-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN215452740U | 公开（公告）日： | 2022-01-07 |
| 发明（设计）人： | 邢小杰;余建国 | 申请（专利权）人： | 东阳市联宜机电有限公司 |
| 主分类号： | H02K15/03 | 分类号： | H02K15/03 |
| 代理公司： | 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 | 代理人： | 林君勇 |
| 地址： | 322100 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种机壳内磁瓦整形装置。一种机壳内磁瓦整形装置，包括上限位块及位于上限位块正下方的下限位块，所述上限位块包括用于定位机壳上端面的上限位块上段和用于定位机壳内磁瓦上端面的上限位块下段，所述下限位块包括用于定位机壳内磁瓦下端面的下限位块上段和用于定位机壳下端面的下限位块下段，上限位块或下限位块在驱动机构作用下升降，上限位块和所述下限位块间设有至少两个用于限制机壳内磁瓦沿圆周方向移动的定位柱，所述定位柱竖向设置并与上限位块或所述下限位块固定，且至少两个定位柱呈环形均匀间隔设置。本实用新型具有能够对磁瓦进行轴向定位的机壳以使机壳与磁瓦的相对轴向以及相邻两层磁瓦间距符合设计标准的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 机壳 内磁瓦 整形 装置 | ||
【主权项】：
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