[实用新型]一种真空镀膜设备

摘要

本实用新型公开了一种真空镀膜设备，包括操作准备箱，所述操作准备箱的底端的两侧均安装有支撑腿，所述操作准备箱内部的中间位置处安装有支撑板，所述气相沉积箱的一端安装有拉门，所述操作准备箱的一端安装有仪表盘。本实用新型通过将极板先进行一定的安装处理，在其第一磁铁和第二磁铁的相互配合下使其产生了一个磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率，从而使其在溅射的过程中具有更好的镀膜效果，从而很好的提高了其整体的镀膜效率，并且很好的提高了气体的离化率，在靶原子产生动能进行高速溅射的过程中，使其基片达到一定的镀膜效果，从而提高了其整体稳定的镀膜的效果。