[实用新型]一种真空镀膜设备

权利要求书

1.一种真空镀膜设备，包括操作准备箱(1)，其特征在于：所述操作准备箱(1)的底端的两侧均安装有支撑腿(5)，所述操作准备箱(1)内部的中间位置处安装有支撑板(4)，所述支撑板(4)顶端的一侧安装有裂化罐(2)，所述裂化罐(2)的内部设置有汽化结构(3)，所述裂化罐(2)的一侧设置有低压处理箱(14)，所述操作准备箱(1)一侧的底端安装有动力箱(6)，所述动力箱(6)内部的一侧安装有真空泵(8)，所述真空泵(8)的一侧设置有驱动电机(7)，所述动力箱(6)的顶端安装有气相沉积箱(11)，所述气相沉积箱(11)内部的中间位置处安装有隔板(12)，所述隔板(12)的顶端设置有磁控溅射结构(13)，所述磁控溅射结构(13)包括极板(1301)，所述极板(1301)安装在隔板(12)的顶端，所述极板(1301)顶端的两侧均安装有第一磁铁(1302)，所述极板(1301)顶端的中间位置处安装有第二磁铁(1304)，所述第二磁铁(1304)的顶端安装有背板(1303)，所述背板(1303)的顶端安装有靶材板(1306)，所述气相沉积箱(11)内部的顶端安装有基片(1305)，所述驱动电机(7)输出端皮带的一端安装有驱动轴(9)，所述驱动轴(9)的内部设置有冷却结构(10)，所述气相沉积箱(11)的一端安装有拉门(15)，所述操作准备箱(1)的一端安装有仪表盘(16)。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：所述汽化结构(3)包括汽化腔(301)，所述汽化腔(301)安装在裂化罐(2)的一端，所述汽化腔(301)的内部安装有内置腔(302)，所述内置腔(302)内部的一端安装有升温组件(303)，所述汽化腔(301)与内置腔(302)内部之间设置有保温棉(304)。

3.根据权利要求2所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：所述升温组件(303)在内置腔(302)的内部呈等间距排列，所述保温棉(304)关于汽化腔(301)的中轴线呈对称分布。

4.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：所述冷却结构(10)包括喷淋管(1001)，所述喷淋管(1001)安装在驱动轴(9)的一端，所述喷淋管(1001)的顶端安装有通管(1002)，所述喷淋管(1001)的底端安装有转轴(1004)，所述喷淋管(1001)的外侧壁安装有喷淋孔(1003)，所述喷淋管(1001)的内部设置有冷凝腔(1005)，所述冷凝腔(1005)的内部填充有冷凝剂(1006)。

5.根据权利要求4所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：所述喷淋孔(1003)在喷淋管(1001)的外侧壁呈等间距排列，所述喷淋管(1001)在驱动轴(9)的一端均匀分布有三组。

6.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备，其特征在于：所述第一磁铁(1302)关于极板(1301)的垂直中轴线呈对称分布，所述第二磁铁(1304)与两侧第一磁铁(1302)之间的间距相同。