[实用新型]一种小型磁流变平面抛光装置有效
| 申请号： | 202121596850.4 | 申请日： | 2021-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN215510493U | 公开（公告）日： | 2022-01-14 |
| 发明（设计）人： | 肖志宏;解滨 | 申请（专利权）人： | 日禺光学科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B41/06;B24B47/00;B24B47/20 |
| 代理公司： | 上海领匠知识产权代理有限公司 31404 | 代理人： | 李华 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市常*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种小型磁流变平面抛光装置，属于涉及磁流变平面抛光技术领域，包括结构主体，所述结构主体的底部设置有支架，所述支架内部底端的中间位置处安装有电机，所述电机的输出端安装有贯穿至支架上方的电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的输出端设置有顶板，所述顶板两侧的两端皆设置有插槽。本实用新型通过设置的压块、软垫和磁块，当不同形状的磁流变位于两组软垫之间时，软垫受压力影响发生变形，且变形的程度与待挤压的磁流变侧端一致，从而使压块和软垫可针对不同形状的磁流变进行支撑，同时磁块对待挤压的磁流变侧端产生磁性吸附，从而使其对磁流变的挤压支撑更为稳定，从而使该抛光装置夹持不同形状的磁流变范围更为广泛。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 小型 流变 平面 抛光 装置 | ||
【主权项】：
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