[实用新型]一种小型磁流变平面抛光装置有效
| 申请号: | 202121596850.4 | 申请日: | 2021-07-14 |
| 公开(公告)号: | CN215510493U | 公开(公告)日: | 2022-01-14 |
| 发明(设计)人: | 肖志宏;解滨 | 申请(专利权)人: | 日禺光学科技(苏州)有限公司 |
| 主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B41/06;B24B47/00;B24B47/20 |
| 代理公司: | 上海领匠知识产权代理有限公司 31404 | 代理人: | 李华 |
| 地址: | 215000 江苏省苏州市常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 小型 流变 平面 抛光 装置 | ||
本实用新型公开了一种小型磁流变平面抛光装置,属于涉及磁流变平面抛光技术领域,包括结构主体,所述结构主体的底部设置有支架,所述支架内部底端的中间位置处安装有电机,所述电机的输出端安装有贯穿至支架上方的电动伸缩杆,所述电动伸缩杆的输出端设置有顶板,所述顶板两侧的两端皆设置有插槽。本实用新型通过设置的压块、软垫和磁块,当不同形状的磁流变位于两组软垫之间时,软垫受压力影响发生变形,且变形的程度与待挤压的磁流变侧端一致,从而使压块和软垫可针对不同形状的磁流变进行支撑,同时磁块对待挤压的磁流变侧端产生磁性吸附,从而使其对磁流变的挤压支撑更为稳定,从而使该抛光装置夹持不同形状的磁流变范围更为广泛。
技术领域
本实用新型涉及磁流变平面抛光技术领域,具体为一种小型磁流变平面抛光装置。
背景技术
磁流变,采用参数化磁流变阻尼器的整车模犁,将最优控制得到的反馈控制矩阵与磁流变参数相联系,得到最佳的电路控制矩阵,从而实现了对悬架中磁流变阻尼器的控制,且为了提高磁流变的商业价值,需要对磁流变的表面进行抛光处理,出现了相应的磁流变平面抛光装置(具体参阅专利号:CN201720970674.3),包括支架,所述支架的顶端设有平台,所述平台上固定有旋转座,所述旋转座上设有抛光盘,所述旋转座连接有抛光盘驱动机构,所述抛光盘的上方设有工件夹持机构,所述工件夹持机构包括有夹盘,所述夹盘位于所述抛光盘上方,所述平台的下方设有磁场发生机构,所述磁场发生机构包括有转盘,所述转盘位于所述抛光盘的下方,所述转盘上以所述转盘的中心为起点,沿等速螺线均匀设置有若干永磁铁。
然而现有的磁流变平面抛光装置在对磁流变机械能夹持支撑时,只能对一种的磁流变进行夹持,从而使其夹持的磁流变范围较少,无法针对不同形状的磁流变,从而降低了使用率。
实用新型内容
基于此,本实用新型的目的是提供一种小型磁流变平面抛光装置,以解决现有的磁流变平面抛光装置在对磁流变机械能夹持支撑时,只能对一种的磁流变进行夹持,从而使其夹持的磁流变范围较少,无法针对不同形状的磁流变,从而降低了使用率的技术问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种小型磁流变平面抛光装置,包括结构主体,所述结构主体的底部设置有支架,所述支架内部底端的中间位置处安装有电机,所述电机的输出端安装有贯穿至支架上方的电动伸缩杆,所述电动伸缩杆的输出端设置有顶板,所述顶板两侧的两端皆设置有插槽,所述插槽远离顶板的一侧皆设置有贯穿至其内部一侧的挤压组件,两组所述挤压组件相邻的一侧皆设置有压块,两组所述压块相邻的一侧皆设置有软垫,两组所述软垫相邻的一侧皆均匀设置有多组磁块。
通过采用上述技术方案,当不同形状的磁流变位于两组软垫之间时,软垫受压力影响发生变形,且变形的程度与待挤压的磁流变侧端一致,从而使压块和软垫可针对不同形状的磁流变进行支撑,同时磁块对待挤压的磁流变侧端产生磁性吸附,从而使其对磁流变的挤压支撑更为稳定,从而使该抛光装置夹持不同形状的磁流变范围更为广泛,提高了使用率。
本实用新型进一步设置为,所述挤压组件皆包括压板,所述压板靠近顶板一侧底部的两端皆设置有贯穿至插槽内部一侧的套杆,所述套杆的外侧皆套设有弹性件,所述压板的顶部皆设置有扶手。
通过采用上述技术方案,利用弹性件使压板对待抛光磁流变的支撑更为稳定。
本实用新型进一步设置为,所述支架顶部的中间位置处设置有插孔,且插孔位于电动伸缩杆输出端的外侧。
通过采用上述技术方案,利用插孔对电动伸缩杆输出端的上下移动提高了足够的空间。
本实用新型进一步设置为,两组所述软垫相邻的一侧皆均匀设置有多组卡槽,所述磁块皆位于卡槽的内部。
通过采用上述技术方案,利用卡槽便于卡接磁块,使其对待挤压的磁流变侧端产生磁性吸附,从而使其对磁流变的挤压支撑更为稳定。
本实用新型进一步设置为,所述压块皆与压板的一侧固定连接。
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