[实用新型]一种用于射频磁控溅射仪的升降装置有效
| 申请号: | 202121522350.6 | 申请日: | 2021-07-06 |
| 公开(公告)号: | CN215593177U | 公开(公告)日: | 2022-01-21 |
| 发明(设计)人: | 刘宇亮 | 申请(专利权)人: | 深圳市矢量科学仪器有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京哌智科创知识产权代理事务所(普通合伙) 11745 | 代理人: | 高丽 |
| 地址: | 广东省深圳市光明区光明街*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种用于射频磁控溅射仪的升降装置,包括固定底座,所述固定底座的上端设置有竖板,所述竖板的下端设置有用于与固定底座之间进行连接的连接机构,所述竖板的侧壁上固定连接有固定块,所述固定块的一端侧壁上开设有凹槽,所述固定底座的上端固定连接有真空箱,所述凹槽内设置有内螺纹管,所述内螺纹管穿过凹槽的侧壁并与其滑动连接,所述内螺纹管的下端穿过真空箱的上端并与其密封滑动连接。本实用新型结构合理,通过设置升降机构以及限位机构,实现对靶头进行大幅度升降,避免靶头的升降幅度较小,导致测量不便的现象,同时在限位杆以及套管的作用下,提高内螺纹管以及靶头移动的稳定性。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 用于 射频 磁控溅射 升降 装置 | ||
【主权项】:
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