[实用新型]一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置有效

专利信息
申请号: 202121457566.9 申请日: 2021-06-29
公开(公告)号: CN216093623U 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 任忠平;尹国钦;陈绍文;卞海刚;蒋晶晶 申请(专利权)人: 宁波福至新材料有限公司
主分类号: B01J19/18 分类号: B01J19/18;B01J19/00;C23F1/46
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所(普通合伙) 31233 代理人: 王亮;孙健
地址: 315800 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型涉及一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置,包括蚀刻槽盖、纵向输送管和竖直输出管,所述的蚀刻槽盖上对称安装有两个竖直穿过蚀刻槽盖的竖直输出管,竖直输出管的上端均设置有朝后延伸的纵向输送管,两个纵向输送管后端之间设置有横向输送管,横向输送管中部后侧设置有对接管,所述的竖直输出管下端安装有扩散罩。本实用新型通过补充氯离子量保证蚀刻液内的三氯化铁的含量能够保证蚀刻液浓度,确保蚀刻反应速度,确保生产效率。
搜索关键词: 一种 用于 蚀刻 氯离子 补充 装置
【主权项】:
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