[实用新型]一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置

权利要求书

1.一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置，其特征在于：包括蚀刻槽盖(1)、纵向输送管(3)和竖直输出管(7)，所述的蚀刻槽盖(1)上对称安装有两个竖直穿过蚀刻槽盖(1)的竖直输出管(7)，竖直输出管(7)的上端均设置有朝后延伸的纵向输送管(3)，两个纵向输送管(3)后端之间设置有横向输送管(4)，横向输送管(4)中部后侧设置有对接管(5)，所述的竖直输出管(7)下端安装有扩散罩(10)。

2.根据权利要求1所述的一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置，其特征在于：所述的扩散罩(10)上设置有若干个孔位。

3.根据权利要求1所述的一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置，其特征在于：所述的蚀刻槽盖(1)中部设置有下端穿过蚀刻槽盖(1)的电机(6)，所述的电机(6)的主轴(12)竖直朝下，所述的主轴(12)下端安装有搅拌块(11)。

4.根据权利要求3所述的一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置，其特征在于：所述的搅拌块(11)下部设置有呈半圆形且竖直布置的搅拌叶轮(13)。

5.根据权利要求3所述的一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置，其特征在于：所述的电机(6)上端设置有控制面板(2)，所述的控制面板(2)上设置有按压式按钮(14)。

6.根据权利要求1所述的一种用于蚀刻槽的氯离子补充装置，其特征在于：所述的蚀刻槽盖(1)下部设置有定位台阶(8)，所述的定位台阶(8)外侧设置有一圈密封圈(9)。