[实用新型]一种提升等离子工艺腔清洁效率的装置有效
| 申请号： | 202121176218.4 | 申请日： | 2021-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN214848489U | 公开（公告）日： | 2021-11-23 |
| 发明（设计）人： | 杨平;张志强 | 申请（专利权）人： | 上海稷以科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海创开专利代理事务所(普通合伙) 31374 | 代理人： | 李兰兰 |
| 地址： | 201100 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种提升等离子工艺腔清洁效率的装置，包括晶圆载盘和金属离子筛，所述晶圆载盘中设有加热体，并连接电源，且所述晶圆载盘连接射频电源，并安装在一升降装置上。本实用新型与现有技术相比的优点是：本实用新型可以很大程度上减少将离子筛网拆装进行清洁的次数，可以有效的提升等离子工艺腔体的平均清洁保养间隔时间，提升了腔体运行的稳定性，也提高了设备的使用效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提升 等离子 工艺 清洁 效率 装置 | ||
【主权项】：
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