[实用新型]一种提升等离子工艺腔清洁效率的装置

说明书

本实用新型公开了一种提升等离子工艺腔清洁效率的装置，包括晶圆载盘和金属离子筛，所述晶圆载盘中设有加热体，并连接电源，且所述晶圆载盘连接射频电源，并安装在一升降装置上。本实用新型与现有技术相比的优点是：本实用新型可以很大程度上减少将离子筛网拆装进行清洁的次数，可以有效的提升等离子工艺腔体的平均清洁保养间隔时间，提升了腔体运行的稳定性，也提高了设备的使用效率。

技术领域

本实用新型涉及等离子体灰化设备，尤其涉及一种提升等离子工艺腔清洁效率的装置，属于晶圆设备技术领域。

背景技术

在晶圆制造的工艺中，等离子体灰化设备是整个生产工艺中不可或缺的设备，随着去胶工艺复杂性不断提高，对于工艺运行的稳定性的要求也越来越高，因此如何提高工艺腔体的稳定性对于制程的稳定性是非常重要的。

等离子去胶工艺腔体的环境会随着工艺的不断运行而变差，尤其是用于改善等离子扩散均匀性和过滤带电离子的离子筛网，会随着去胶设备的不断运行在其下表面沉积一定有机聚合物，该聚合物会随着沉积厚度的增加而影响工艺腔体环境，会造成对产品的污染，因此如何有效的去除或控制离子筛网表面聚合物沉积的厚度是改善等离子工艺腔体环境的关键。

传统的等离子腔体的结果如图2所示，加热载盘A给晶圆B加热，提升晶圆的去胶速率。随着去胶工艺的不断运行会在离子筛网下表面沉积一定厚度的聚合物，通过统计产品作业的数量来作为清洁的依据，待产品作业数量达到设定值时就需要将离子筛网拆下来进行清洗保养。这样的做法不仅增加了保养人员的工作负担，同时也降低了生产效率。

因此，研发一种提升等离子工艺腔清洁效率的装置，成为本领域技术人员亟待解决的问题。

实用新型内容

本实用新型是为了解决上述不足，提供了一种提升等离子工艺腔清洁效率的装置。

本实用新型的上述目的通过以下的技术方案来实现：一种提升等离子工艺腔清洁效率的装置，包括晶圆载盘和金属离子筛，所述晶圆载盘中设有加热体，并连接电源，且所述晶圆载盘连接射频电源，并安装在一升降装置上。

本实用新型是在晶圆载盘在原有仅有加热功能的基础上，设计成一个既可以给晶圆加热，又可以接入射频电源作为射频功率电极，同时可以通过一个升降装置来改变该晶圆载盘和离子筛网之间的距离。晶圆载盘可在接入加热板和射频电源之间自由切换，当在运行去胶工艺时晶圆载盘可接入加热棒为晶圆提供加热功能，但随着工艺运行时间的积累需要对离子筛网表面的聚合物进行清洁时，晶圆载盘可自动切换接入射频电源，同时晶圆载盘可通过自动升降装置减少晶圆载盘作为射频电极到离子筛网平面的距离，离子筛网是接地的，相当于地电极，当给载盘输入一定的射频功率时，就会在载盘和离子筛网之间形成电容耦合的放电规律(CCP放电)，CCP放电可提供高能的轰击离子，可有效的去除离子筛网表面沉积的聚合物，载盘和离子筛网距离的减少可进一步提升清洁的效果，减少离子筛网表面聚合物的清洁时间，这样可以很大程度上减少了将离子筛网拆装进行清洁的次数，可以有效的提升等离子工艺腔体的平均清洁保养间隔时间(MTBC)，同时提供了设备的使用效率。

本实用新型与现有技术相比的优点是：本实用新型可以很大程度上减少将离子筛网拆装进行清洁的次数，可以有效的提升等离子工艺腔体的平均清洁保养间隔时间(MTBC)，提升了腔体运行的稳定性，也提高了设备的使用效率。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是传统晶圆载盘的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型进一步详述。

如图1所示，一种提升等离子工艺腔清洁效率的装置，包括晶圆载盘1和金属离子筛2，所述晶圆载盘1中设有加热体3，并连接电源4，且所述晶圆载盘1连接射频电源5，并安装在一升降装置6上。