[实用新型]一种浇注料盘及真空浇注系统有效
| 申请号： | 202121042904.2 | 申请日： | 2021-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN215095070U | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 邝光照;侯海文;黄育军;陈彦 | 申请（专利权）人： | 中山凯旋真空科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B29C39/24 | 分类号： | B29C39/24;B29C39/42 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 赵新龙;阚梓瑄 |
| 地址： | 528478 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型实施例的浇注料盘及真空浇注系统，浇注料盘应用于真空浇注系统，浇注料盘包括：料盘本体和多个浇注嘴。料盘本体具有一排料口。多个浇注嘴沿着料盘本体的周向方向布置。其中，料盘本体的一侧表面具有斜面结构，斜面结构自排料口的边缘向料盘本体的边缘延伸，以使料盘本体上的多余物料能够依靠自身重力沿着斜面结构流至排料口。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 浇注 真空 系统 | ||
【主权项】：
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