[实用新型]一种浇注料盘及真空浇注系统有效

专利信息
申请号: 202121042904.2 申请日: 2021-05-14
公开(公告)号: CN215095070U 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 邝光照;侯海文;黄育军;陈彦 申请(专利权)人: 中山凯旋真空科技股份有限公司
主分类号: B29C39/24 分类号: B29C39/24;B29C39/42
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 赵新龙;阚梓瑄
地址: 528478 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 浇注 真空 系统
【说明书】:

实用新型实施例的浇注料盘及真空浇注系统,浇注料盘应用于真空浇注系统,浇注料盘包括:料盘本体和多个浇注嘴。料盘本体具有一排料口。多个浇注嘴沿着料盘本体的周向方向布置。其中,料盘本体的一侧表面具有斜面结构,斜面结构自排料口的边缘向料盘本体的边缘延伸,以使料盘本体上的多余物料能够依靠自身重力沿着斜面结构流至排料口。

技术领域

本实用新型涉及静态浇注技术领域,具体而言,涉及一种浇注料盘及真空浇注系统。

背景技术

目前,在进行静态浇注工艺时,由于被灌注的相关物料(主要成分包括环氧树脂、固化剂及石英粉填料灯)的粘稠度极高,每次切换浇注头时,都会有少量物料泄漏,久而久之少量物料容易堆积并附着在料盘表面上。泄漏的物料在短时间内很容易固化,造成分配料盘堵塞,导致需要经常清洗或更换新的料盘,不仅维修成本高,而且还影响浇注效率。

实用新型内容

本实用新型提供一种能够自动排料的浇注料盘。

本实用新型还提供一种包括上述浇注料盘的真空浇注系统。

本实用新型实施例的浇注料盘,应用于真空浇注系统,所述浇注料盘包括:料盘本体和多个浇注嘴。料盘本体具有一排料口;多个浇注嘴沿着所述料盘本体的周向方向布置;其中,所述料盘本体的一侧表面具有斜面结构,所述斜面结构自所述排料口的边缘向所述料盘本体的边缘延伸,以使所述料盘本体上的多余物料能够依靠自身重力沿着所述斜面结构流至所述排料口。

根据本实用新型的一些实施方式,各所述浇注嘴与一浇注管连接的一端部凸设于所述斜面结构。

根据本实用新型的一些实施方式,所述斜面结构为圆锥面。

根据本实用新型的一些实施方式,所述斜面结构包括第一斜面和第二斜面,所述第一斜面与所述排料口的边缘相接,所述第二斜面相接于所述第一斜面,且向所述料盘本体的边缘延伸;

其中,所述第一斜面和所述第二斜面的斜度不同。

根据本实用新型的一些实施方式,所述第二斜面的斜度小于所述第一斜面的斜度,所述多个浇注嘴设于所述第二斜面。

根据本实用新型的一些实施方式,所述第一斜面和所述第二斜面均为圆锥面。

根据本实用新型的一些实施方式,多个所述浇注嘴沿着周向方向均匀设置,相邻的两个所述浇注嘴之间形成一排料槽。

根据本实用新型的一些实施方式,多个所述浇注嘴形成一环状结构;

所述第一斜面自所述排料口的边缘延伸至所述环状结构的内壁面。

根据本实用新型的一些实施方式,所述排料口位于所述料盘本体的中心。

本实用新型实施例的真空浇注系统,包括上述任一项所述的浇注料盘。

上述实用新型中的一个实施例具有如下优点或有益效果:

本实用新型实施例的浇注料盘能够及时排出泄漏的物料,确保料盘经过较长时间使用后也不会出现堵塞,具有结构简单、性能优越、维修保养费用低的优点。

附图说明

通过参照附图详细描述其示例实施方式,本实用新型的上述和其它特征及优点将变得更加明显。

图1示出的是本实用新型实施例的浇注料盘的一个视角的示意图。

图2示出的是本实用新型实施例的浇注料盘的另一个视角的示意图。

图3示出的是本实用新型实施例的浇注料盘和浇注管装配后的示意图。

图4示出的是本实用新型实施例的浇注料盘和浇注管装配后剖视图。

其中,附图标记说明如下:

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