[实用新型]一种磁控真空镀膜设备有效
| 申请号： | 202121027722.8 | 申请日： | 2021-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN215163080U | 公开（公告）日： | 2021-12-14 |
| 发明（设计）人： | 王毅 | 申请（专利权）人： | 苏州六三二八光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 南京常青藤知识产权代理有限公司 32286 | 代理人： | 黄胡生 |
| 地址： | 215200 江苏省苏州市吴*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种磁控真空镀膜设备，包括真空室，真空室内对称有第一隔离板以及第二隔离板，真空室顶部设有气体释放口与气体收集口，气体释放口连接有用于储放氩气的气室，真空室内部安装有输送机，真空室内部中心位置设有工作台，工作台顶端间隔设有阴极柱，阴极柱底面处设有阴极板，工作台底端间隔设有阳极柱，阳极柱顶面处设有阳极板，阴极板与阳极板之间设有靶材，阳极柱侧面安装有磁控管，真空室一侧连接有冷却系统，冷却系统连接有循环泵。本实用新型通过阴极板与靶材进行磁控溅射，利用磁控管调整磁场磁力线分布，具有冷却效果好、牢固度强、靶材的利用率高的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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