[实用新型]一种磁控真空镀膜设备

权利要求书

1.一种磁控真空镀膜设备，包括真空室(1)，其特征在于：所述真空室(1)内对称有第一隔离板(110)以及第二隔离板(120)，所述真空室(1)顶部设有气体释放口(140)与气体收集口(150)，所述气体释放口(140)连接有用于储放氩气的气室(130)，所述气体收集口(150)连接有气体回收系统(160)，所述真空室(1)内部安装有用于运送基材的输送机(2)，所述输送机(2)的输入端设置在所述第一隔离板(110)与所述真空室(1)的侧壁之间，所述输送机(2)的输出端设置在所述第二隔离板(120)与真空室(1)的侧壁之间，所述真空室(1)内部中心位置设有工作台(3)，所述工作台(3)上安装有加热模块(4)，所述工作台(3)顶端间隔设有阴极柱(6)，所述阴极柱(6)内芯接通有高压电，所述阴极柱(6)底面处设有阴极板(61)，所述工作台(3)底端间隔设有阳极柱(8)，所述阳极柱(8)顶面处设有阳极板(81)，所述阴极板(61)与所述阳极板(81)之间设有靶材(7)，所述阴极柱(6)侧面固定连接有横板(10)，所述横板(10)底端固定连接有对称设置支杆(11)，所述支杆(11)底端固定连接有安装板(12)，所述靶材(7)设置在所述安装板(12)上，所述安装板(12)底部侧边位置固定连接有强磁铁(13)，所述阳极柱(8)侧面安装有磁控管(9)，所述真空室(1)一侧连接有冷却系统(14)，所述冷却系统(14)连接有用于输送换热介质的循环泵(17)。

2.根据权利要求1所述的一种磁控真空镀膜设备，其特征在于：所述冷却系统(14)包括第一冷却流路(15)以及第二冷却流路(16)，所述第一冷却流路(15)与所述第二冷却流路(16)分别设有与所述循环泵(17)密封连通的循环流路(18)，所述循环流路(18)连接有换热室(19)。

3.根据权利要求2所述的一种磁控真空镀膜设备，其特征在于：所述第一冷却流路(15)末端的换热室(19)通过换热片(20)连接所述安装板(12)，所述换热片(20)固定连接在所述安装板(12)的侧面，所述第二冷却流路(16)末端的换热室(19)设置在靠近所述输送机(2)的输出端位置。

4.根据权利要求1所述的一种磁控真空镀膜设备，所述其特征在于：所述真空室(1)内顶壁固定连接有定位架(5)，所述阴极柱(6)固定连接在所述定位架(5)的下端，所述阴极柱(6)与所述定位架(5)上均设有高压屏蔽。

5.根据权利要求1所述的一种磁控真空镀膜设备，其特征在于：所述靶材(7)尺寸大于所述阴极板(61)尺寸，所述阴极板(61)尺寸大于所述阳极板(81)尺寸。

6.根据权利要求1所述的一种磁控真空镀膜设备，其特征在于：所述磁控管(9)环形分布在所述阳极柱(8)的外侧面。

7.根据权利要求1所述的一种磁控真空镀膜设备，其特征在于：所述输送机(2)贯穿所述第一隔离板(110)与所述第二隔离板(120)，所述第一隔离板(110)与所述第二隔离板(120)相朝向的侧面均设有密封盖板(21)，所述密封盖板(21)上安装有密封圈(22)。