[实用新型]一种改善光照均匀性的光刻机有效
| 申请号： | 202121007699.6 | 申请日： | 2021-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN214846231U | 公开（公告）日： | 2021-11-23 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 常熟埃眸科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 天津市科航尚博专利代理事务所(普通合伙) 12234 | 代理人： | 吴疆 |
| 地址： | 215505 江苏省苏州市常*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种改善光照均匀性的光刻机，包括光刻箱、导光箱和导光筒，还包括掩模座和取料槽，所述光刻箱顶部通过螺栓安装有导光箱，所述导光箱一侧顶部通过螺栓穿设安装有导光筒，所述导光箱内顶部通过螺栓安装有三棱镜，所述导光箱内底部通过螺栓安装有掩模座，所述掩模座顶部开设有掩模版槽，所述光刻箱内底部通过螺栓安装有座板，所述座板顶部通过螺栓安装有Z轴电动滑轨，所述Z轴电动滑轨的Z轴滑动块顶部通过螺栓安装有X轴电动滑轨。整体改善光照均匀性的光刻机使用稳定高效，能够对光刻设备作业环境更加稳定，助于光照更加均匀，大大提升光刻的品质，具有较高的实用性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 光照 均匀 光刻 | ||
【主权项】：
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