[实用新型]一种改善光照均匀性的光刻机

权利要求书

1.一种改善光照均匀性的光刻机，包括光刻箱(1)、导光箱(2)和导光筒(3)，其特征在于，还包括掩模座(4)和取料槽(6)，所述光刻箱(1)顶部通过螺栓安装有导光箱(2)，所述导光箱(2)一侧顶部通过螺栓穿设安装有导光筒(3)，所述导光箱(2)内顶部通过螺栓安装有三棱镜(17)，所述导光箱(2)内底部通过螺栓安装有掩模座(4)，所述掩模座(4)顶部开设有掩模版槽(18)，所述光刻箱(1)内底部通过螺栓安装有座板(8)，所述座板(8)顶部通过螺栓安装有Z轴电动滑轨(9)，所述Z轴电动滑轨(9)的Z轴滑动块(11)顶部通过螺栓安装有X轴电动滑轨(10)。

2.根据权利要求1所述的一种改善光照均匀性的光刻机，其特征在于：所述光刻箱(1)和导光箱(2)的一侧底部设有螺纹接口(13)，所述光刻箱(1)和导光箱(2)的螺纹接口(13)一侧均配备有真空泵(14)，所述真空泵(14)的进气口通过抽气管分别与对应的螺纹接口(13)安装连接，所述螺纹接口(13)上通过法兰装配有电磁阀(15)。

3.根据权利要求1所述的一种改善光照均匀性的光刻机，其特征在于：所述光刻箱(1)一端顶部开设有取料槽(6)，所述取料槽(6)一侧通过铰链安装有L型盖板(7)，所述导光箱(2)一侧开设有换版口(19)，所述换版口(19)一侧通过铰链安装有防护门(5)，所述L型盖板(7)和防护门(5)的闭合处均胶设有密封条。

4.根据权利要求1所述的一种改善光照均匀性的光刻机，其特征在于：所述光刻箱(1)底部与导光箱(2)贯通连接，所述光刻箱(1)与导光箱(2)之间闭合处涂设有密封胶。

5.根据权利要求1所述的一种改善光照均匀性的光刻机，其特征在于：所述导光箱(2)另一侧顶部通过螺栓安装有紫外线探测器(16)，所述紫外线探测器(16)的探头贯穿插设于导光箱(2)内。

6.根据权利要求1所述的一种改善光照均匀性的光刻机，其特征在于：所述X轴电动滑轨(10)顶部滑动连接有X轴滑块(12)，所述X轴滑块(12)和Z轴滑动块(11)顶部均开设有安装孔，所述光刻箱(1)顶部一侧通过螺栓安装有设备箱(20)，所述导光筒(3)一端与设备箱(20)贯通连接。