[实用新型]一种清洁晶圆及等离子体处理装置有效
| 申请号： | 202120679182.5 | 申请日： | 2021-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN214279906U | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 周艳;杨宽 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;B08B13/00;B08B7/00;B08B5/02 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种清洁晶圆，一种等离子体处理装置及处理方法，包括一反应腔，所述反应腔包括：进气装置，用于向所述反应腔输送清洁气体；射频电源，用于将所述清洁气体解离为清洁等离子体；清洁晶圆；静电吸盘，用于承载所述清洁晶圆，清洁晶圆与静电吸盘之间设置一支撑装置，所述支撑装置使得清洁晶圆背面与静电吸盘表面之间形成一定高度，进而使得清洁晶圆边缘区域的背面与聚焦环的上表面形成一定缝隙，避免对聚焦环上表面和聚焦环与静电吸盘之间的缝隙造成遮挡，使得清洁等离子体能有效清除聚焦环第二上表面和缝隙内的沉积物。保证等离子体处理装置处理晶圆的均一性，同时降低沉积物可能导致的电弧放电现象，提高设备的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洁 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
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