[实用新型]一种双光子三维光刻装置

摘要

本实用新型公开了一种双光子三维光刻装置，包括光源模块，光源模块上设有波长不同的第一光路和第二光路，第一光路和第二光路上各自设有色散补偿器；空间光调制模块，对第一光路和第二光路分别调制产生第一光强分布图和第二光强分布图；投影模块，将空间光调制模块产生的第一光强分布图和第二光强分布图成像于物镜的焦平面上；位移模块，用于对光刻胶的三维扫描和光刻，所述第一光强分布图和第二光强分布图部分重叠聚焦在光刻胶内部，对光刻胶进行光刻；计算机，用于控制色散补偿器、空间光调制模块和位移模块。本申请的双光子三维光刻装置，采用面投影光刻技术，通过“时空光片叠加”和“实时色散补偿”技术提高纵向加工精度。