[实用新型]一种双光子三维光刻装置

权利要求书

1.一种双光子三维光刻装置，其特征在于，包括：

光源模块，包括波长不同的第一光路和第二光路，所述第一光路和第二光路上各自设有色散补偿器，所述色散补偿器用于预补偿第一光路和第二光路中激光脉冲色散；

空间光调制模块，对第一光路和第二光路分别调制产生第一光强分布图和第二光强分布图；

投影模块，将空间光调制模块产生的第一光强分布图和第二光强分布图成像于物镜的焦平面上；

位移模块，用于对光刻胶的三维扫描和光刻，所述第一光强分布图和第二光强分布图部分重叠聚焦在光刻胶内部，对光刻胶进行光刻；计算机，用于控制色散补偿器、空间光调制模块和位移模块。

2.如权利要求1所述的双光子三维光刻装置，其特征在于，所述位移模块包括位移平台和载玻片，所述载玻片上设有光刻胶，所述载玻片与位移平台连接，所述位移平台受控于控制模块。

3.如权利要求2所述的双光子三维光刻装置，其特征在于，所述位移模块具有检测装置，所述检测装置包括：

透镜，用于收集检测光成像；

检测器，实时检测光刻胶厚度，反馈色散补偿器，实时调节色散补偿量；

照明光源，用于检测照明。

4.如权利要求1所述的双光子三维光刻装置，其特征在于，所述第一光路和第二光路上还包括功率控制元件、4F透镜组，所述功率控制元件设在所述4F透镜组的输入光路上。

5.如权利要求4所述的双光子三维光刻装置，其特征在于，所述功率控制元件包括半波片和偏振分束器，所述偏振分束器设置在半波片的输出光路上，所述4F透镜组设置在偏振分束器的输出光路上。

6.如权利要求1所述的双光子三维光刻装置，其特征在于，所述第一光路和第二光路上还包括光束整形器，将高斯光斑转换为光强均匀分布的平顶光斑。

7.如权利要求1至6中任一项权利要求所述的双光子三维光刻装置，其特征在于，所述空间光调制模块包括反射镜、空间光调制器和偏振元件，所述反射镜用于调节第一光路、第二光路的光束角度，所述空间光调制器对第一光路和第二光路分别调制产生第一光强分布图和第二光强分布图，所述偏振元件调节第一光路、第二光路的光束偏振态。

8.如权利要求7所述的双光子三维光刻装置，其特征在于，所述空间光调制模块上还设有第一波片、第二波片，所述第二波片包括四分之一波片和/或半波片。

9.如权利要求7所述的双光子三维光刻装置，其特征在于，所述空间光调制器为LCOS、DMD或LCD。

10.如权利要求7所述的双光子三维光刻装置，其特征在于，所述投影模块还包括第一二向色镜和第二二向色镜，所述第一二向色镜用于反射第一光路激光、透射第二光路激光，所述第二二向色镜用于反射第二光路激光。