[实用新型]一种离子源屏蔽装置有效
| 申请号： | 202120441660.9 | 申请日： | 2021-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN214477328U | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 范江华;佘鹏程;程文进;罗超;刘宇;黄也 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J49/10;H01J49/02 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 徐好 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种离子源屏蔽装置，包括矩形支架，所述矩形支架的至少一长边上设有多个束流修正块，相邻两个所述束流修正块接触，各所述束流修正块可沿所述矩形支架的短边方向移动，所述矩形支架和所述束流修正块均为不导磁材料。该离子源屏蔽装置，矩形支架和束流修正块均为不导磁材料，能够提升离子束加工的均匀性，多个束流修正块安装于矩形支架上形成整体修正形状，各束流修正块可沿矩形支架的短边方向移动，可灵活调整束流修正块的整体修正形状，离子束被束流修正块部分遮挡，从而调整矩形离子源轰击到工件的束流分布，提升离子束加工的均匀性，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子源 屏蔽 装置 | ||
【主权项】：
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