[实用新型]一种离子源屏蔽装置

说明书

本实用新型公开了一种离子源屏蔽装置，包括矩形支架，所述矩形支架的至少一长边上设有多个束流修正块，相邻两个所述束流修正块接触，各所述束流修正块可沿所述矩形支架的短边方向移动，所述矩形支架和所述束流修正块均为不导磁材料。该离子源屏蔽装置，矩形支架和束流修正块均为不导磁材料，能够提升离子束加工的均匀性，多个束流修正块安装于矩形支架上形成整体修正形状，各束流修正块可沿矩形支架的短边方向移动，可灵活调整束流修正块的整体修正形状，离子束被束流修正块部分遮挡，从而调整矩形离子源轰击到工件的束流分布，提升离子束加工的均匀性，提高生产效率。

技术领域

本实用新型涉及离子束加工技术领域，具体涉及一种离子源屏蔽装置。

背景技术

离子束加工技术广泛应用于MEMS(Microelectro Mechanical Systems微机电系统)薄膜传感器、微波器件、光电子器件等领域的溅射镀膜、蚀刻等工艺。离子源作为离子束加工设备中的核心部件技术也在不断提升，按离子束出口形状分类，离子源主要有圆形和矩形两种，其中圆形离子源随着口径越来越大，存在栅网变形等多种问题，而矩形离子源通常在长边做一些防变形设计来强化栅网组件，因此在大尺寸基片加工中应用越来越多。

随着现代电子器件向高集成度、低成本的方向发展，离子束加工面临的基片尺寸越来越大，离子束流区域和均匀性要求越来越高。为满足电子器件工艺需求，离子源口径在不断加大，同时对离子束流均匀性的要求也不断提高，因此对离子源的设计及加工提出了极高要求，特别是离子源磁场、离子光学栅网、放电室结构(包括阴极、阳极、放电腔室)等一系列影响离子源束流均匀性的部件参数设计。离子源磁场优化、放电室结构设计难度大，涉及到的理论研究计算与部件研制费用高、周期长，而离子光学栅网涉及到弧形栅网还需要开模，加工费用极高、制造周期长。

实用新型内容

本实用新型要解决的问题是克服现有技术的不足，提供一种结构简单、操作方便、制造成本低的可提升离子束加工均匀性的离子源屏蔽装置。

为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：一种离子源屏蔽装置，包括矩形支架，所述矩形支架的至少一长边上设有多个束流修正块，相邻两个所述束流修正块接触，各所述束流修正块可沿所述矩形支架的短边方向移动，所述矩形支架和所述束流修正块均为不导磁材料。

作为上述技术方案的进一步改进：所述矩形支架的两长边上均设有束流修正块，两长边上的束流修正块之间构成离子束通道。

作为上述技术方案的进一步改进：所述矩形支架包括沿长边布置的修正块固定板，所述束流修正块设于所述修正块固定板上，所述修正块固定板可沿所述矩形支架的短边方向移动，所述修正块固定板为不导磁材料。

作为上述技术方案的进一步改进：所述修正块固定板上设有第一条形孔，所述修正块固定板通过设于第一条形孔内的紧固件与所述矩形支架相连。

作为上述技术方案的进一步改进：所述第一条形孔为U形孔且开口朝向所述矩形支架的外侧。

作为上述技术方案的进一步改进：所述束流修正块上设有第二条形孔，所述束流修正块通过设于第二条形孔内的紧固件与所述矩形支架相连。

作为上述技术方案的进一步改进：所述第二条形孔的边缘设有圆角为U形孔且开口朝向所述矩形支架的外侧。

作为上述技术方案的进一步改进：所述矩形支架的短边设有安装孔。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：该离子源屏蔽装置，矩形支架和束流修正块均为不导磁材料，能够提升离子束加工的均匀性，多个束流修正块安装于矩形支架上形成整体修正形状，各束流修正块可沿矩形支架的短边方向移动，可灵活调整束流修正块的整体修正形状，离子束被束流修正块部分遮挡，从而调整矩形离子源轰击到工件的束流分布，提升离子束加工的均匀性，提高生产效率。

附图说明

图1为本实用新型离子源屏蔽装置的结构示意图。