[实用新型]一种光刻胶匀胶显影机的冷却装置有效

专利信息
申请号: 202120439504.9 申请日: 2021-03-01
公开(公告)号: CN214311292U 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 吴想;戴文海;周加宏 申请(专利权)人: 江西维易尔半导体设备有限公司
主分类号: G03F7/38 分类号: G03F7/38
代理公司: 南昌合达信知识产权代理事务所(普通合伙) 36142 代理人: 陈龙
地址: 334000 江西省上饶*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 实用新型涉及显影机技术领域,尤其涉及一种光刻胶匀胶显影机的冷却装置,其包括底板、分别相对应固定设于底板两侧的侧板,主控制基座和连接板,底板上固定设有冷板底座,其内设有冷板和散热块,冷板和散热块经盖板固定设于冷板底座内,冷板上设有多个可调节定位的硅片定位块和顶孔,冷板的底部设有温感压块和均匀分布并依次电性连接的制冷片,温感压块内设有温感探头,主控制基座上固定安装有气缸和温控控制电路板,气缸的伸缩杆上连接有支架连接块,其的一端固定设有顶杆并位于冷板底座内,顶杆的一端穿过散热块并设于顶孔内,其不仅结构简单,所需成本低,温度感应精准,不会影响硅片的冷却效果,保证硅片生产质量,可以满足市场需求。
搜索关键词: 一种 光刻 胶匀胶 显影 冷却 装置
【主权项】:
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