[实用新型]一种用于晶圆切割后的清洗装置有效

专利信息
申请号: 202120415833.X 申请日: 2021-02-25
公开(公告)号: CN214505448U 公开(公告)日: 2021-10-26
发明(设计)人: 周小勇;周宗翼 申请(专利权)人: 铜陵市锋尚精密模具有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/687
代理公司: 铜陵市天成专利事务所(普通合伙) 34105 代理人: 李坤
地址: 244000 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 实用新型公开了一种用于晶圆切割后的清洗装置,涉及半导体制造技术领域,包括箱体和废液盒,废液盒固定在箱体的底部,箱体内的侧壁上固定安装有清洗头一和清洗头二,箱体内通过隔板分隔出储存区一和储存区二,储存区一内的底部固定有气体供给仪,气体供给仪通过气体管道和清洗头一相连接,储存区二内的底部固定有溶液供给仪,溶液供给仪通过溶液管道和清洗头二相连接,箱体内焊接有竖隔板和横隔板,竖隔板上开设有竖槽,横隔板上开设有通孔,本实用新型能够一次清洗多个晶圆,能够提高工作效率,放置台能够方便使用者把清洗固定机构放入箱体内,减少操作难度,进一步提高效率,而且能够根据不同的需求对晶圆进行清洗。
搜索关键词: 一种 用于 切割 清洗 装置
【主权项】:
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