[实用新型]平面度检测设备及系统有效
| 申请号： | 202120233157.4 | 申请日： | 2021-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN214407428U | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 孙少东;高浩然;袁广才;张丽蕾;付文悦;李丽;郑汉博;刘书奇;齐琪;闫俊伟;谷平宽;井丽娜;陈艳;陈一民 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B21/30 | 分类号： | G01B21/30 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人： | 武娜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种平面度检测设备及系统。所述平面度检测设备，包括底座、检测平台与测距传感器，检测平台装配在底座上，检测平台包括支撑结构，支撑结构位于检测平台远离底座的一侧，用于支撑待检测板件；支撑结构与待检测板件的结构相匹配。测距传感器位于检测平台远离底座的一侧，在待检测板件放置于检测平台上后，测距传感器用于检测待检测板件上的N个待检测位置分别与测距传感器之间的距离，得到N个距离信息，N个距离信息用于确定待检测板件的平面度，N为大于2的整数。根据本实用新型的实施例，可以检测玻璃基板的平面度，以改善制备工艺减小玻璃基板的平面度，避免玻璃基板在进入后续工艺设备时容易发生破碎导致工艺设备宕机的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 平面 检测 设备 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202120233157.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
