[发明专利]一种含吡唑啉基团的光致产酸剂及制备方法和应用有效
| 申请号： | 202111614422.4 | 申请日： | 2021-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN114276296B | 公开（公告）日： | 2023-06-02 |
| 发明（设计）人： | 金明;王永辉 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | C07D231/06 | 分类号： | C07D231/06;C07D413/10;C07C381/12;C07C25/18;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海科律专利代理事务所(特殊普通合伙) 31290 | 代理人： | 叶凤 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种含吡唑啉基团的光致产酸剂及制备方法和应用，适用于I线(365nm)光刻胶，属于化学合成及光刻材料领域。特别涉及式(I)或(II)所示结构的新型化合物，该光致产酸剂在365nm处光吸收良好，具有优异的光生酸性能，且其制备过程中，原料易得、路线简单，便于工业化制备。本发明所合成的带有吡唑啉基团的磺酸根阴离子具有较大体积，增大了光生磺酸的分子量，在其参与的光刻胶的光刻过程中可有效降低光生酸的扩散，改善边缘粗糙度，减小线宽粗糙度，提高分辨率。 |
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| 搜索关键词： | 一种 吡唑 基团 光致产酸剂 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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