[发明专利]一种真空镀、水镀一体化设备和超薄铜箔的生产方法在审

专利信息
申请号: 202111602155.9 申请日: 2021-12-24
公开(公告)号: CN114481080A 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 臧世伟 申请(专利权)人: 重庆金美新材料科技有限公司
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56;C23C14/24;C25D17/00;C25D19/00;C25D7/06
代理公司: 北京卓岚智财知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11624 代理人: 沈煜华
地址: 401420 重庆市綦江*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明实施例提供一种真空镀、水镀一体化设备和超薄铜箔的生产方法,该设备包括真空腔体、绕卷装置和电镀装置,绕卷装置用于对薄膜进行绕卷,真空腔室用于对绕卷装置中的薄膜进行真空蒸镀,电镀装置用于对蒸镀后的薄膜进行电镀。通过本发明实施例,无需将蒸镀后的薄膜在运输到电镀设备进行电镀,即可以避免运输耗时耗力,同时也可以避免运输途中空气中的水份吸附在薄膜上,影响产品质量问题。
搜索关键词: 一种 真空 一体化 设备 超薄 铜箔 生产 方法
【主权项】:
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