[发明专利]一种厚光刻胶清洗液在审
| 申请号： | 202111598182.3 | 申请日： | 2021-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN116339083A | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 程章;刘兵;彭洪修;赵文才 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种厚光刻胶清洗液，包括季铵氢氧化物，有机溶剂，第一腐蚀抑制剂，第二腐蚀抑制剂和去离子水；所述有机溶剂包含第一有机溶剂和第二有机溶剂，所述第一腐蚀抑制剂为多元醇类化合物；所述第二腐蚀抑制剂为含巯基的芳香化合物。本发明中的厚光刻胶清洗的去除液不仅能够有效地除去较厚的光刻胶，同时对晶圆上的铜金属薄膜、非金属材料AlN和凸点材料(SnAg、Sn、NiSnAg等)有较好的相容性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 清洗 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子科技（上海）股份有限公司，未经安集微电子科技（上海）股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111598182.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
