[发明专利]一种厚光刻胶清洗液

权利要求书

1.一种厚光刻胶清洗液，其特征在于，包括：

季铵氢氧化物，有机溶剂，第一腐蚀抑制剂，第二腐蚀抑制剂和去离子水；

其中，所述有机溶剂包含第一有机溶剂和第二有机溶剂；

所述第一腐蚀抑制剂为多元醇类化合物；

所述第二腐蚀抑制剂为含巯基的芳香化合物。

2.如权利要求1所述的厚光刻胶清洗液，其特征在于，

所述季铵氢氧化物选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、甲基三乙基氢氧化铵和羟乙基三甲基氢氧化铵等中的一种或多种。

3.如权利要求1所述的厚光刻胶清洗液，其特征在于，

所述季铵氢氧化物的质量百分比含量为0.5％～10％。

4.如权利要求3所述的厚光刻胶清洗液，其特征在于，

所述季铵氢氧化物的质量百分比含量为1％～6％。

5.如权利要求1所述的厚光刻胶清洗液，其特征在于，

所述第一有机溶剂为二甲基亚砜。

6.如权利要求1所述的厚光刻胶清洗液，其特征在于，

所述第一有机溶剂质量百分比含量为49％～99％。

7.如权利要求1所述的厚光刻胶清洗液，其特征在于，

所述第二有机溶剂选自1,3-二甲基-2-咪唑烷酮、1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N-羟乙基吡咯烷酮、N-环己基吡咯烷酮、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚中、乙二醇苯醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、丙二醇苯醚、乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、甘油、四氢糠醇、苯甲醇中的一种或多种。

8.如权利要求1所述的厚光刻胶清洗液，其特征在于，

所述第二有机溶剂的质量百分比含量为0.1％～20％。

9.如权利要求1所述的厚光刻胶清洗液，其特征在于，

所述第一腐蚀抑制剂选自季戊四醇、双季戊四醇、赤藓糖醇、苏糖醇、木糖醇、阿拉伯糖醋、山梨糖醇、甘露醇、塔罗糖醇、艾杜糖醇、麦芽糖醇、乳糖醇、肌醇中的一种或多种。

10.如权利要求1所述的厚光刻胶清洗液，其特征在于，

所述第一腐蚀抑制剂的质量百分比含量为0.05％～10％。

11.如权利要求1所述的厚光刻胶清洗液，其特征在于，

所述第二腐蚀抑制剂选自甲巯咪唑、2-巯基咪唑、2-巯基苯并咪唑、5-氨基-2-巯基苯并咪唑、邻甲苯硫酚、对甲基苯硫酚、硫代水杨酸、对羟基苯硫酚、三聚硫氰酸、2-甲基-3-巯基呋喃、2-巯基嘧啶、甲基硫脲嘧啶、2-巯基吡啶、4-巯基吡啶、2-巯基烟酸、2-巯基苯并恶唑、6-巯基嘌呤、2,6-二巯基嘌呤、1-甲基-5-巯基四氮唑、1-苯基-5-巯基四氮唑、3-氨基-5-巯基-1,2,4-三氮唑、4-甲基-4H-3-巯基-1,2,4-三氮唑、3-巯基-1,2,4-三氮唑、1-甲基-5-巯基-1H-四氮唑中的一种或多种。

12.如权利要求1所述的厚光刻胶清洗液，其特征在于，

所述第二腐蚀抑制剂的质量百分比含量为0.05％～5％。

13.如权利要求1所述的厚光刻胶清洗液，其特征在于，

所述去离子水的质量百分比含量为0.05％～10％。