[发明专利]纳米压印模板及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202111592119.9 申请日: 2021-12-23
公开(公告)号: CN114265282A 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 罗刚 申请(专利权)人: 罗刚
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 苏州三英知识产权代理有限公司 32412 代理人: 席勇
地址: 江苏省苏州市吴中区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种纳米压印模板及其制造方法。所述纳米压印模板包括基板和形成在基板上的单元结构。所述基板包括:基底(1)、第一微结构阵列层(2)、第一键合层(4)、第一柔性层(11)和基础层(13)。第一微结构阵列层包括多个第一微结构,该多个第一微结构之间通过第一空腔(3)间隔开。第一键合层(4)设置在该第一微结构阵列层(2)的上方且与所述第一微结构阵列层(2)的上表面低温键合在一起。第一插入层(5)设置于所述第一键合层上。第一柔性层(11)设置在所述第一插入层上方。基础层(13)设置在所述第一柔性层(11)上方。本发明的纳米压印模板可以有效地降低模板制造过程和使用过程中产生的应力问题。
搜索关键词: 纳米 压印 模板 及其 制造 方法
【主权项】:
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