[发明专利]一种超声成像器件及超声设备在审
| 申请号： | 202111554345.8 | 申请日： | 2021-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN114259254A | 公开（公告）日： | 2022-04-01 |
| 发明（设计）人： | 韩艳玲;王雷;曹永刚;勾越;崔亮;王玉波;马媛媛;李扬冰;姬雅倩;李倩岩 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | A61B8/00 | 分类号： | A61B8/00 |
| 代理公司： | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 崔家源;范继晨 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开实施例提供了一种超声成像器件及超声设备，超声成像器件包括：PI衬底层、设置于PI衬底上的多个阵元单元以及设置在多个阵元单元上的封装保护层；其中，各个阵元单元之间通过软填充材料隔离；阵元单元由下至上依次包括：下电极、凹形腔结构、振膜和上电极，下电极、凹形腔结构、振膜和上电极的横截面形状相同，凹形腔结构、振膜的横截面大小相同，上电极的横截面小于下电极的横截面，其中，下电极设置在靠近PI衬底层一侧，上电极设置在靠近封装保护层一侧，凹形腔结构的剖面结构为凹形，内部为中空腔室。本公开实施例的超声成像器件各个阵元单元之间互不影响，探头尺寸和形态可以随意设计，且不需要耦合剂就可以清晰呈像，性能较好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 超声 成像 器件 设备 | ||
【主权项】：
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